Ứng dụng Phún xạ Magnetron là gì?

Phún xạ Magnetron là gì?

Hình minh họa bia phún xạ Magnetron đang hoạt động

MAGNETRON SPUTTERING là kỹ thuật phún xạ (sử dụng cả với xoay chiều và một chiều) cải tiến từ các hệ phún xạ thông dụng bằng cách đặt bên dưới bia các nam châm được sắp xếp có chủ đích. Từ trường của nam châm có tác dụng bẫy các điện tử vào trong vùng gần bia nhờ đó làm tăng hiệu ứng ion hóa do làm tăng tần số va chạm giữa các điện tử với các nguyên tử khí ở gần bề mặt bia do đó làm tăng tốc độ lắng đọng đồng thời giảm sự bắn phá của điện tử và iôn trên bề mặt màng, giảm nhiệt độ đế và có thể tạo ra sự phóng điện ở áp suất thấp hơn. Áp suất phóng điện càng thấp thì càng giảm được nồng độ các tạp chất trong màng và tăng động năng của các nguyên tử đến lắng đọng trên màng (do quãng đường tự do trung bình (mean free path) của các nguyên tử khí càng tăng, và do đó tấn số va chạm với các nguyên tử lắng động càng giảm, khi áp suất càng thấp)

Khác với phương pháp bay bốc nhiệt, phún xạ không làm cho vật liệu bị bay hơi do đốt nóng mà thực chất quá trình phún xạ là quá trình truyền động năng. Vật liệu nguồn được tạo thành dạng các tấm bia (target) và được đặt tại điện cực (thường là cathode), trong buồng được hút chân không cao và nạp khí hiếm với áp suất thấp (cỡ 10−2 mbar). Dưới tác dụng của điện trường, các nguyên tử khí hiếm bị ion hóa, tăng tốc và chuyển động về phía bia với tốc độ lớn và bắn phá bề mặt bia, truyền động năng cho các nguyên tử vật liệu tại bề mặt bia. Các nguyên tử được truyền động năng sẽ bay về phía đế và lắng đọng trên đế. Các nguyên tử này được gọi là các nguyên tử bị phún xạ. Như vậy, cơ chế của quá trình phún xạ là va chạm và trao đổi xung lượng, hoàn toàn khác với cơ chế của phương pháp bay bốc nhiệt trong chân không.

Sự lắng đọng phún xạ Magnetron sử dụng một từ trường kín để bẫy các electron, tăng cường cả hiệu quả của quá trình ion hóa ban đầu và cho phép tạo ra plasma ở áp suất thấp hơn, làm giảm cả sự kết hợp khí nền trong lớp phủ và mất năng lượng trong nguyên tử phún xạ qua va chạm ion Khí. Kỹ thuật này đã được thiết kế và triển khai trong nhiều lĩnh vực, để thúc đẩy các giải pháp dành riêng cho ứng dụng chuyên ngành khoa học vật liệu

Để biết thêm thông tin về phún xạ Magnetron hoặc để thảo luận về dự án của bạn, hãy liên hệ

CÔNG TY SONXI^®

VPGD 1 : 497/2 Quốc lộ 1A,P.Bình Hưng Hoà,Q.Bình Tân,TP.HCM

Điện thoại : 0286.274.2986 – 09385 96909

Zalo : 0938 596 909

Email : sonxicompany@gmail.com

Website : www. www.sonxitools.com

VPGD 2 : 83 Nghĩa Thục,P5,Q5,TP.HCM

Điện thoại : 0938 596 909

Email : sonxicompany@gmail.com

Website : www. www.sonxitools.com

Nhà máy Sản xuất : Lô LL 5A-LL6,đường số 2,KCN Xuyên Á,Xã Mỹ Hạnh Bắc,Huyện Đức Hòa,Tỉnh Long An,Việt Nam.